[천지일보=정다준 기자] 반도체 비메모리 분야 1위를 넘보며 삼성전자가 선보였던 극자외선(EUV) 기술공정이 일본 수출규제에 발목을 잡을 관측이다. 이미 EUV용 포토리지스트(PR)는 일본 외에 대체 가능한 업체가 없으며 추가 규제 가능성이 제기된 블랭크 마스크 또한 EUV용 제품을 일본 업체가 독점하고 있기 때문이다.
11일 업계에 따르면 집적회로(IC), 전력반도체(PMIC), 리소그래피 장비, 이온주입기, 웨이퍼, 블랭크 마스크 등 일본이 추가로 규제할 가능성이 높은 반도체 관련 품목이다. 모두 일본 수출규제의 주요 근거로 작용하고 있는 ‘수출무역관리령’의 통제대상품목(1∼15항)에 포함된 제품들이다.
특히 웨이퍼와 블랭크 마스크는 일본 업체의 시장 점유율이 매우 높으며 블랭크(blank) 마스크는 노광 공정에 사용되는 포토마스크의 원재료로 반도체 공정이 미세화해 그 중요성이 더욱 커지고 있다. 삼성전자가 주력하고 있는 EUV 기술 또한 미세한 공정에 적합한 차세대 기술로 국내에서 생산하는 블랭크 마스크로는 일본 외 대체할 수 없다는 게 업계의 중론이다.
EUV용 포토리지스트는 일본의 JSR, 신에츠 등이 공급하고 있으며 국내 동진쎄미켐 등은 아직 EUV용을 개발 중이다.
앞서 삼성전자는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구·개발(R&D) 및 생산시설 확충에 133조원을 투자하고 1만 5000명의 전문인력을 채용하는 ‘반도체 비전 2030’을 선포한 바 있다. 이밖에 SK하이닉스는 2021년 이후 EUV 도입을 준비하고 있는 것으로 알려졌다.