삼성전자 반도체 생산현장에서 직원들이 시스템을 점검하고 있다. 삼성의 투자는 반도체를 비롯해 신성장 산업에 집중된다. (제공: 삼성전자) ⓒ천지일보 2018.9.3
삼성전자 반도체 생산현장에서 직원들이 시스템을 점검하고 있다. 삼성의 투자는 반도체를 비롯해 신성장 산업에 집중된다. (제공: 삼성전자) ⓒ천지일보 2018.9.3

[천지일보=정다준 기자] 삼성전자가 2030년까지 시스템 반도체 분야의 연구개발(R&D) 및 생산기술 확충에 총 133조원을 투자하고, 전문인력 1만 5천명을 채용하기로 했다.

삼성전자는 24일 ‘반도체 비전 2030’을 통해 2030년까지 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 각각 투자한다며 이같이 발표했다.

삼성전자는 향후 경기도 화성캠퍼스의 신규 EUV(극자외선) 생산라인을 활용해 생산량을 늘리는 한편 신규 라인 투자도 계속 추진할 예정이다.

삼성전자는 시스템 반도체 R&D 제조 전문인력 1만 5천명도 채용할 계획이다.

이에 2030년까지 연 평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고 생산량이 증가하면서 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 삼성전자는 기대했다.

삼성전자는 또 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(Fabless, 반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(Design House, 설계 서비스 기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계의 경쟁력을 강화할 방침이다.

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