[삼성전자 컨콜] 4분기 반도체 인프라 투자 비중 35~40%

[천지일보=박수란 기자] 삼성전자가 31일 3분기 컨퍼런스콜에서 반도체 시설투자와 관련해 4분기 인프라 투자 비중이 35~40% 정도될 것으로 전망했다.

올해 반도체 시설투자는 총 29.5조원이며 4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이다. 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰인다.

메모리의 경우 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있으며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.

올해 전체 시설투자는 약 46.2조원으로 지난해 25.5조원 대비 대폭 증가할 것으로 예상된다. 사업별로는 반도체 29.5조원, 디스플레이 14.1조원 수준이다.

3분기 시설투자는 총 10.4조원이며 반도체에 7.2조원, 디스플레이에 2.7조원이 투자됐다.

3분기 누계로는 32.9조원이 집행됐다.

디스플레이의 경우는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행중이다.